Merkmale und Ausstattung

  • Substrate bis 200 x 200 mm2
  • Strukturen bis zu 0,6 µm
  • Adressraster bis zu 50 nm
  • Vektor- und Rastermodus
  • Mehrere Schreibköpfe
  • 3D Belichtungsmodus
  • Kamerasystem
  • Rückseiten-Alignierung
  • Klimakammer
  • Kundenspezifischer Laser
  • Optischer und Luftdruck-Autofokus
  • Mehrere Datenformate (DXF, CIF, GDSII, Gerber, BMP, Ascii, STL)

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DWL 66FS- Lithographie für Forschung und Entwicklung

DWL 66FS

Muster

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Das ultimative Lithographiesystem für die Forschung

Das DWL 66FS Laser Lithographiesystem is ein ökonomischer und hochauflösender Pattern Generator zum direkten Belichten von Mikrostrukturen und zur Herstellung von Masken in geringer Stückzahl.

Die Eigenschaften und die Flexibilität dieses Systems machen es zu dem vielseitigsten und ultimativen lithographischen Werkzeug für Anwendungen wie MEMS, BioMEMS, Mikro-Optik, ASICs, Mikro-Fluidik, Sensoren, CGHs und alle anderen Bereiche in denen Mikrostrukturen benötigt werden.

Über 100 der weltweit führenden Universitäten und Forschungseinrichtungen nutzen das DWL 66FS für ihre Forschung und Entwicklung im Bereich der Mikro- und Nanotechnologie. Einige der Funktionen dieses Systems wurden in enger Zusammenarbeit mit diesen Instituten entwickelt und in das System integriert.

Für zusätzliche Informationen können Sie das Datenblatt herunterladen oder uns jederzeit kontaktieren.